針對特定應用的定制解決方案
為了確保鍍膜工藝的成功和可重復性，我們開發了一個可旋轉、可加熱的基材臺，從而可實現良好的均勻性和鍍膜質量。
為了滿足您的不同需求，我們提供了由三個主要版本組成的模塊化系統：
- 基本型
- 高級型
- 全功能型
我們可以從中推導出 576 種可能的版本！
模塊化系統
基于其模塊化原理，TWISTER™ 基材臺是一種典型的可升級設備，僅在添加真空進樣室時需要額外的氣動夾具。如果需要冷卻，只需將加熱板更換為加熱和冷卻組合板即可。
精準操控，獲得精確結果
- 通過精確旋轉基材，獲得均勻一致的薄膜
- 可選的 Z-shift，用于調整基材與鍍膜源的距離，并用于真空進樣室轉移
- 基材板靈活可調，直徑可達 6 英寸
- 通過加熱至 400 °C 改善鍍層質量
- 可選水冷卻：
- 易于更換的鍍膜護罩，便于清潔
- 包含位置控制
- 可對大多數現有實驗室鍍膜設備進行升級
